2025-04-15 01:17:01
在激光應(yīng)用領(lǐng)域,高功率光束檢測一直是個(gè)難題。傳統(tǒng)面陣傳感器十分靈敏,在每平方厘米約 10μW 的功率水平下就會飽和,常規(guī)激光器功率遠(yuǎn)超此強(qiáng)度,不衰減光束不僅無法測量光斑信息,還可能損壞設(shè)備。維度光電為此推出 BeamHere 光斑分析儀系列及適配的高功率光束取樣系統(tǒng)。其掃描狹縫式光斑分析儀采用創(chuàng)新的狹縫物理衰減機(jī)制,可直接測量近 10W 的高功率激光,無需額外衰減片。在此基礎(chǔ)上,還推出單次取樣與雙次取樣兩款衰減配件,可組裝疊加形成多次取樣系統(tǒng)。與合適衰減片搭配,可測功率超 1000W。單次取樣配件型號 DL - LBA - 1,45° 傾斜設(shè)計(jì),取樣率 4% - 5%,有 C 口安裝方式和鎖緊環(huán)結(jié)構(gòu),能測量任意角度入射激光;雙次取樣配件型號 DL - LBA - 2,內(nèi)部緊湊安裝兩片取樣透鏡,取樣率 0.16% - 0.25%,可應(yīng)對 400W 功率光束,多面體結(jié)構(gòu)有多個(gè)支撐安裝孔位。組合安裝配件可進(jìn)一步衰減更高功率激光,大衰減程度達(dá) 10??。而且其緊湊結(jié)構(gòu)的取樣光程能滿足聚焦光斑測量需求,單次取樣 68mm,雙次取樣 53mm,為各類激光應(yīng)用場景的檢測提供了方案。如何評判激光質(zhì)量的好壞?光通信光斑分析儀發(fā)展
Dimension-Labs 推出的相機(jī)式光斑分析儀系列包含兩個(gè)型號,覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,實(shí)現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實(shí)時(shí)顯示與分析。其優(yōu)勢如下: 寬光譜覆蓋與動態(tài)分析 單臺設(shè)備即可滿足 400-1700nm 全波段測量需求,支持 2D 光斑實(shí)時(shí)成像與 3D 功率分布動態(tài)分析。高幀率連續(xù)測量模式下,可實(shí)時(shí)捕捉光斑變化并生成任意視角的 3D 視圖,為光學(xué)系統(tǒng)調(diào)試、動態(tài)測試及時(shí)間監(jiān)控提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復(fù)雜光斑適應(yīng)性 基于面陣傳感器的成像原理,可測量非高斯分布光束(如平頂、貝塞爾光束)及含高階橫模的復(fù)雜光斑,突破傳統(tǒng)掃描式設(shè)備的局限性。 功率調(diào)節(jié)系統(tǒng) 標(biāo)配 6 片不同衰減率的濾光片,通過獨(dú)特的轉(zhuǎn)輪結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,可測功率提升 100 倍。一鍵切換濾光片設(shè)計(jì)簡化操作流程,兼顧寬量程與高精度需求。 科研級功能拓展 采用模塊化可拆卸設(shè)計(jì),光斑分析相機(jī)與濾光片轉(zhuǎn)輪可分離使用。拆卸后的相機(jī)兼容通用驅(qū)動軟件,支持科研成像、光譜分析等擴(kuò)展應(yīng)用,實(shí)現(xiàn)工業(yè)檢測與實(shí)驗(yàn)室的一機(jī)多用。光通信光斑分析儀發(fā)展工業(yè)光斑檢測儀如何選?維度光電;
維度光電BeamHere 光斑分析儀選型指南: 1. 光束特性分析 光斑尺寸:亞微米用狹縫式(2.5μm 精度),毫米級用相機(jī)式(10mm 量程)。 功率等級:高功率用狹縫式(近 10W),微瓦級用相機(jī)式(適配衰減片)。 光束形態(tài):高斯用狹縫式(經(jīng)濟(jì)),非高斯用相機(jī)式(保留細(xì)節(jié))。 脈沖特性:單脈沖用相機(jī)式(觸發(fā)同步),連續(xù)/高頻用狹縫式(匹配掃描頻率)。 2. 應(yīng)用場景適配 工業(yè):高功率用狹縫式,動態(tài)監(jiān)測與校準(zhǔn)用相機(jī)式,組合方案覆蓋全流程。 **:相機(jī)式監(jiān)測能量分布,脈沖激光適配觸發(fā)模式確保精度。 科研:超短脈沖與復(fù)雜光束分析用相機(jī)式,材料加工優(yōu)化結(jié)合狹縫式。 光通信:光纖檢測用相機(jī)式,激光器表征用狹縫式高靈敏度測量。 3. 功能擴(kuò)展規(guī)劃 單一需求:以光斑尺寸與功率為,如高功率 + 亞微米光斑選狹縫式。 復(fù)雜場景:雙技術(shù)組合(狹縫式 + 相機(jī)式),實(shí)現(xiàn)全場景覆蓋。 長期規(guī)劃:科研機(jī)構(gòu)選全功能模塊(M? 因子測試、皮秒同步),工業(yè)用戶選基礎(chǔ)款 + 定制接口。
維度光電的BeamHere光斑分析儀系列品類齊全。從精細(xì)的微小光斑分析到大面積的宏觀光斑探測,從**能量到高能量密度的光斑測量,無一不在其覆蓋范圍之內(nèi)。無論是科研實(shí)驗(yàn)中對微小光斑現(xiàn)象的,需要超高分辨率的光斑分析;還是工業(yè)生產(chǎn)里對大功率激光加工光束質(zhì)量的把控,涉及高能量密度光斑的監(jiān)測,BeamHere光斑分析儀都能出色勝任。 其應(yīng)用方案更是豐富多樣。在激光加工領(lǐng)域,可助力企業(yè)優(yōu)化切割、焊接工藝,確保光斑能量均勻分布,提高加工精度與效率;于生物醫(yī)學(xué)成像方面,能夠幫助科研人員清晰解析光學(xué)成像系統(tǒng)中的光斑特性,提升成像質(zhì)量與診斷性;在光通信行業(yè),為光信號的傳輸質(zhì)量檢測提供有力保障,確保數(shù)據(jù)傳輸?shù)母咚倥c穩(wěn)定。無干涉條紋的光斑質(zhì)量分析儀。
維度光電深刻認(rèn)識到高功率光束檢測在激光應(yīng)用中的性和難度。大多數(shù)光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會飽和,而常規(guī)激光器功率普遍較高,這使得大功率光束檢測成為激光應(yīng)用的難點(diǎn)。為解決這一問題,維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統(tǒng)。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創(chuàng)新的狹縫物理衰減機(jī)制,可直接測量近 10W 高功率激光,保障了測試過程的**與高效。為應(yīng)對更高功率,又推出單次和雙次取樣配件,可疊加使用形成多次取樣系統(tǒng)。搭配合適衰減片,可測功率超 1000W。單次取樣配件 DL - LBA - 1,取樣率 4% - 5%,采用 45° 傾斜設(shè)計(jì)和 C 口安裝,有鎖緊環(huán)可固定在任意方向測量不同角度入射激光;雙次取樣配件 DL - LBA - 2,取樣率 0.16% - 0.25%,內(nèi)部兩片取樣透鏡緊湊安裝,能應(yīng)對 400W 功率光束,多面體結(jié)構(gòu)便于工業(yè)或?qū)嶒?yàn)環(huán)境安裝。組合安裝配件可獲得高衰減程度,實(shí)現(xiàn)更高功率激光測量。同時(shí),其緊湊結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的取樣光程滿足聚焦光斑測量,單次 68mm,雙次 53mm,為激光生產(chǎn)提供了強(qiáng)大的檢測支持。脈沖激光光束質(zhì)量怎么測檢測?維度光電,超快激光器研發(fā)利器。光通信光斑分析儀發(fā)展
多光斑光束質(zhì)量怎么測?光通信光斑分析儀發(fā)展
Dimension-Labs 突破性推出 Beamhere 智能光斑分析平臺,通過模塊化設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)光束質(zhì)量全參數(shù)檢測。該系統(tǒng)采用高靈敏度傳感器陣列,可實(shí)時(shí)測繪光斑能量分布,同步計(jì)算發(fā)散角及 M? 因子等指標(biāo)。針對光束整形、聚焦優(yōu)化等場景,系統(tǒng)提供專業(yè)分析模板,支持 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)參數(shù)輸出??蛇x配的 M? 測試模塊通過滑軌式掃描技術(shù),實(shí)現(xiàn)光束傳播特性的三維重建,終由 AI 算法自動生成包含能量集中度、橢圓率等 20 + 參數(shù)的測試報(bào)告。 產(chǎn)品優(yōu)勢: 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設(shè)計(jì)的分析軟件。 軟件真正做到交互友好,簡單易用,一鍵輸出測試報(bào)告。光通信光斑分析儀發(fā)展